• Университет
  • Образование
  • Наука и инновации
  • Сотрудничество
  • Жизнь в ТПУ

Рябчиков Александр Ильич

Заведующий лабораторией

Учебный корпус № 11 , офис 138 (г. Томск, пр-кт. Ленина, д.2 стр.4)

+7 (0) 705694 вн. т. 2361

Общая информация

Приоритетные научные направления деятельности лаборатории связаны с направленной модификацией элементного состава, микроструктуры и свойств различных материалов и покрытий пучками заряженных частиц и плазменными потоками. Коллектив лаборатории исследует фундаментальные закономерности взаимодействия ионных, электронных пучков и плазменных потоков различной интенсивности с поверхностью твердого тела, разрабатывает новые методы ионной имплантации, ионно-ассистированного осаждения покрытий.

 Лаборатория занимается разработкой сильноточных импульсно периодических источников ионов на основе вакуумно-дугового разряда типа «Радуга» для ионной имплантации, источников плазмы на основе вакуумного дугового разряда, газовых разрядов и магнетронных распылительных систем, плазменных фильтров и систем очистки плазмы вакуумной дуги от микрокапельной фракции.

Специалистами подразделения ведутся работы по разработке и изготовлению технологического оборудования для реализации методов ионно-лучевой и ионно-плазменной обработки материалов, внедрению методов и технологий ионно-лучевой и ионно-плазменной модификации свойств материалов и т.д.

В течение последних трех лет лаборатория активно исследует и разрабатывает научные основы нового метода кардинального улучшения физико-химических и эксплуатационных свойств материалов и покрытий. Метод основан на высокоинтенсивной экстремально – высокодозовой имплантации ионов низкой энергии. Предложен метод и разработаны высокоинтенсивные источники пучков ионов металлов, газов, полупроводниковых материалов с плотностью ионного тока до (0.5 – 1) А/см2 при энергиях ионов от 1 до 7 кэВ. Исследования закономерностей модификации различных металлов и сплавов при флюенсах ионной имплантации в диапазоне (1019- 5·1021) ион/см2 (облучение в течение одного часа)  доказывают возможность и перспективность ионного легирования материалов на глубинах в десятки и сотни микрометров, а не на глубинах порядка 0.1 микрометр, как при обычной ионной имплантации, с соответствующим многократным улучшением эксплуатационных свойств материалов.   

По основным направлениям деятельности лаборатории получено более 40 авторских свидетельств и патентов, опубликовано более 200 статей и докладов на конференциях. По материалам исследований в НЛВИИ защищено 5 докторских и 7 кандидатских диссертаций. Созданные оборудование и технологии внедрены на ряде предприятий и неоднократно отмечались медалями и дипломами на всероссийских и международных выставках. В 2019 году руководитель НЛВИИ д.ф.-м. н., профессор А.И. Рябчиков стал лауреатом конкурса Томской области в сфере образования, науки, здравоохранения и культуры в номинации «Профессор года»

Оцените была ли информация на этой странице полезной?